WCC800 कोटिंग उपकरण स्पटर डिपोजिशन प्रक्रिया
आयन स्रोत
- सतह की सफाई के लिए उच्च-ऊर्जा प्लाज्मा
- खुरदरेपन को प्रभावित किए बिना परमाणु स्तर पर नक्काशी;
- आसान रखरखाव
उच्च लक्ष्य उपयोग के लिए असंतुलित चुंबकीय क्षेत्र डिजाइन;
- कोटिंग का प्रकार: Cr, WC/C, TiAlN आदि
- कोटिंग के प्रकार: Cr, WC/C, TiAlN आदि
- बेहतर कोटिंग गुणवत्ता प्रदान करना
- फिल्म तनाव कम करें
| नमूना | डब्ल्यूसीसी800 |
|---|---|
| तकनीकी | 1DCMS+3HiPIMS |
| कोटिंग प्रकार | Cr, WC/C, TiAlN, आदि |
| एचिंग | तय करना |
| कैथोडों की संख्या | 4 |
| आकार (लंबाई चौड़ाई: मिमी) | 3750 × 1800 × 2500 |
| कक्ष का आयतन (मी³) | 0.8 |
| कोटिंग की मात्रा (मिमी) | Φ650 × 400 |
| भार वहन क्षमता (पेड़) | 8/या ग्राहक के अनुरोध पर |
| अधिकतम भार वहन क्षमता (किलोग्राम) | 350 |
| स्पिंडल का व्यास (मिमी) | Φ170 |
| प्रक्रिया समय (घंटे) | 4~5 |





